芯片制造行業用超純水

設備型號
YB-CCS-001
產水量
可根據用戶要求而定
適用范圍
1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水; 2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水; 3、實驗室和中試車間用超純水; 4、汽車、家電表面拋光處理; 5、光電子產品; 6、其他高科技精微產品。

產品介紹

芯片制造行業用超純水設備全套系統自動化程度高，系統穩定性高。芯片制造用超純水設備擁有完美的設計、卓越的品質、精良的施工質量，有效的去除水中的雜質、重金屬離子、細菌等有害物質，出水水質符合電子工業生產用水需求。

工藝設計

水進入EDI系統，主要部分流入樹脂/膜內部，而另一部分沿模板外側流動，以洗去透出膜外的離子。樹脂截留水中的溶存離子。被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負極方向運動。陽離子透過陽離子膜，排出樹脂/膜之外。陰離子透過陰離子膜，排出樹脂/膜之外。濃縮了的離子從廢水流路中排出。無離子水從樹脂/膜內流出。

設備特點

1、優質零部件組裝，更加耐用。

2、可以隨時增加膜的數量以增加處理量。

3、自我保護系統，故障急停。

4、復合膜擁有更高的分離率和透過率。

5、水利用高，能產生更多的可飲用水。

6、體積更小，使用工地面積小。

7、淡水即可沖洗符合膜。

8、部件更加耐用，長期無需維修。

9、液晶顯示器用超純水設備設計有膜清洗系統用阻垢系統。

技術參數

電導率：2-10μS/cm（25℃）
PH值：6.5－9
水溫度：5～35℃
總硬度：<0.5ppm
有機物：<0.5 ppm,TOC為零
氧化物：≤0.05ppm
鐵、錳：<0.01ppm
二氧化硅：<0.05 ppm
二氧化碳：<5ppm

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